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공지사항
제목 300mm Plasma Doping System 납품 2010-11-24
Plasma Doping System은 저에너지 이온주입장치를 대체할 차세대 장비로 초기시장제품이며, 향후 폭발적인 성장으로 반도체 장비시장의 상당한 부분을 차지할, 주요 품목이 될 것으로 예상되어지는 핵심장비입니다.

본 장비는 나노반도체장비원천기술상용화 국책사업으로 수요기관인 대기업과의 상생협력을 통하여 장비개발을 추진하여 왔으며, 2011년 부터 당사의 매출주력품목으로 육성되어질 최첨단 장비입니다.